JIS K 0117:2017 赤外分光分析通則

                                                                                   K 0117 : 2017

pdf 目 次

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•  1 適用範囲・・・・[1]
•  2 引用規格・・・・[1]
•  3 用語及び定義・・・・[1]
•  4 装置・・・・[2]
•  4.1 装置の概要・・・・[2]
•  4.2 赤外分光光度計・・・・[3]
•  4.3 附属装置・・・・[7]
•  4.4 付加機能・・・・[14]
•  5 試料調製方法・・・・[16]
•  5.1 一般的注意・・・・[16]
•  5.2 固体・・・・[17]
•  5.3 粉体・・・・[18]
•  5.4 液体・・・・[18]
•  5.5 気体・・・・[18]
•  6 操作方法・・・・[19]
•  6.1 装置の設置・・・・[19]
•  6.2 測定操作・・・・[19]
•  6.3 分光光度計の補正及び検査方法・・・・[20]
•  7 定性分析・・・・[21]
•  7.1 吸収スペクトルの解析によって行う方法・・・・[21]
•  7.2 既知化合物のスペクトル比較による方法・・・・[22]
•  8 定量分析・・・・[22]
•  8.1 定量方法・・・・[22]
•  8.2 定量値の表示・・・・[24]
•  9 データの質の保証・・・・[24]
•  9.1 一般・・・・[24]
•  9.2 装置の診断・・・・[24]
•  9.3 装置の性能確認・・・・[24]
•  9.4 適切な試料の調製・・・・[25]
•  9.5 定量分析におけるデータの質の管理・・・・[25]
•  10 安全・保守・・・・[25]
•  10.1 安全・・・・[25]
•  10.2 保守・・・・[26]
•  11 測定結果の整理・・・・[26]
•  12 個別規格に記載すべき事項・・・・[26]

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――――― [JIS K 0117 pdf 1] ―――――

K 0117 : 2017

pdf 目次

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•  12.1 定性分析・・・・[26]
•  12.2 定量分析・・・・[26]

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                                                                                   K 0117 : 2017

まえがき

  この規格は,工業標準化法第14条によって準用する第12条第1項の規定に基づき,一般社団法人日本
分析機器工業会(JAIMA)及び一般財団法人日本規格協会(JSA)から,工業標準原案を具して日本工業
規格を改正すべきとの申出があり,日本工業標準調査会の審議を経て,経済産業大臣が改正した日本工業
規格である。
  これによって,JIS K 0117:2000は改正され,この規格に置き換えられた。
  この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
  この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について,責任はもたない。

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                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
                                                                              K 0117 : 2017

赤外分光分析通則

General rules for infrared spectrophotometric analysis

1 適用範囲

  この規格は,赤外分光光度計を用いて無機物及び有機物の定性分析又は定量分析を行う場合の通則につ
いて規定する1)。
    注1) 赤外線は広義には可視光線とマイクロ波との間の波長をもつ電磁波を指すが,この規格では波
          数4 000 cm−1400 cm−1(波長2.5                      の範囲とする。

2 引用規格

  次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。
    JIS K 0050 化学分析方法通則
    JIS K 0211 分析化学用語(基礎部門)
    JIS K 0212 分析化学用語(光学部門)
    JIS K 0215 分析化学用語(分析機器部門)

3 用語及び定義

  この規格で用いる主な用語及び定義は,JIS K 0211,JIS K 0212及びJIS K 0215によるほか,次による。
3.1
インターフェログラム(interferogram)
  マイケルソン干渉計からの信号を光の光路差を横軸に,光の強度を縦軸にとって示した図形。干渉図形
ともいう。
3.2
アポダイゼーション(apodization)
  干渉計が有限の走査距離をもつために生じるスペクトルのひずみなどを軽減するために,インターフェ
ログラムに適切な関数を重畳する数学的操作。
3.3
吸光度(absorbance)
  試料を透過した光の強度(I)と,透過前の光の強度(I0)との比を常用対数で表した数値2)。
    注2) 吸光度(Abs)は,次による。
          吸光度(Abs)=−log10(I/I0)
3.4
ランバート・ブーゲの法則及びベールの法則

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K 0117 : 2017
  媒質に光束を透過させたとき,入射光束の強度と透過光束の強度との関係を示す法則3)。ランバート-ベ
ールの法則,ランバート-ベアーの法則(Lambert-Beers law)ともいう。
    注3) 強度I0の単色の入射光束が,媒質を通過したとき,光の強度がIに減少する。このときI0とI
          との間に成り立つ,次の関係式で表される法則をいう。
            I=I0×10−εcl
            ε : モル吸光係数(cm−1 mol−1 L)
            c : 濃度(mol L−1)
            l : 光路長(cm)
3.5
クベルカ・ムンク変換(Kubelka-Munk transformation)
  拡散反射法で測定したスペクトルを吸収スペクトルに変換する方法。
3.6
正反射法(specular reflection method)
  試料表面での光の正反射(鏡面反射)を用い,反射光の強度を測定する方法。反射率は複素屈折率の関
数となるので吸収スペクトルに直すにはクラマース・クローニッヒ変換が必要である。
3.7
ATR法(attenuated total reflection method)
  光を臨界角以上の角度で入射したときに起こる高屈折率物質内部での全反射に伴う全反射面近傍での低
屈折率媒質への電磁波のしみ出しを利用した高吸収物質又は物質表面の測定方法。
3.8
電気的直接比法
  複光束方式の分光分析機器において,試料側光束の光量と対照側光束との光量の比較を電気的に行う方
法。

4 装置

4.1 装置の概要

  通常用いられている赤外分光光度計の構成の例を図1図3に示す。赤外分光光度計には測光方式によ
って,干渉方式のフーリエ変換形赤外分光光度計(図1)及び分散方式の分散形赤外分光光度計(図2及
び図3)に大別できる。
  図1に,フーリエ変換形赤外分光光度計の構成の一例を示す。装置は,光源部,試料部,分光測光部(干
渉計,検出器,増幅器,A/D変換器,サンプリング信号発生器),フーリエ変換部,データ処理部,表示・
記録部などで構成する。図2に,測光方式として光学的零位法を用いた分散形赤外分光光度計の構成の一
例を示す。装置は,光源部,試料部,分光測光部(減光器,セクターミラー,分光器,検出器,増幅器),
データ処理部4),表示・記録部などで構成する。図3に,電気的直接比法を用いた分散形赤外分光光度計
の構成の一例を示す。装置は,光源部,試料部,分光測光部(セクターミラー,分光器,検出器,増幅器,
演算器),データ処理部4),表示・記録部などで構成する。
    注4) データ処理部は,必須の構成要素ではなく,これを備えていない装置もある。

――――― [JIS K 0117 pdf 5] ―――――

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