JIS R 1704:2007 ファインセラミックス―活性酸素生成能力測定による光触媒材料の水質浄化性能試験方法

JIS R 1704:2007 規格概要

この規格 R1704は、光触媒機能を利用して,水中の汚染物質を分解して浄化することを目的とした光触媒を,成形又は材料表面に付着させた光触媒材料の水質浄化性能試験方法について規定。可視光応答形光触媒には適用しない。

JISR1704 規格全文情報

規格番号
JIS R1704 
規格名称
ファインセラミックス―活性酸素生成能力測定による光触媒材料の水質浄化性能試験方法
規格名称英語訳
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) -- Test method for water-purification performance of photocatalytic materials by measurement of forming ability of active oxygen
制定年月日
2007年10月20日
最新改正日
2017年10月20日
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対応国際規格

ISO

国際規格分類

ICS

81.060.30
主務大臣
経済産業
JISハンドブック
ファインセラミックス 2018
改訂:履歴
2007-10-20 制定日, 2012-10-22 確認日, 2017-10-20 確認
ページ
JIS R 1704:2007 PDF [9]
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pdf 目 次

ページ

  •  序文・・・・[1]
  •  1 適用範囲・・・・[1]
  •  2 引用規格・・・・[1]
  •  3 用語及び定義・・・・[1]
  •  4 試験装置・・・・[2]
  •  4.1 装置及び器具・・・・[3]
  •  4.2 試薬・・・・[3]
  •  4.3 試験片の準備・・・・[3]
  •  4.4 試験の方法・・・・[4]
  •  4.5 試験条件・・・・[4]
  •  5 試験成立条件・・・・[4]
  •  6 計算・・・・[5]
  •  6.1 暗条件下における試験片によるジメチルスルホキシド(DMSO)の吸着濃度・・・・[5]
  •  6.2 明条件下における試験片によるDMSOの濃度変化・・・・[5]
  •  6.3 メタンスルホン酸の生成量・・・・[5]
  •  6.4 暗条件及び明条件下でのDMSOの最終濃度の比較・・・・[5]
  •  7 DMSO半減時間の計算・・・・[5]
  •  8 試験結果の報告・・・・[5]
  •  9 試験測定例・・・・[6]

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――――― [JIS R 1704 pdf 1] ―――――

R 1704 : 2007

まえがき

  この規格は,工業標準化法に基づき,日本工業標準調査会の審議を経て,経済産業大臣が制定した日本
工業規格である。
この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。
この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願,実用新案権又は出願公開後の実用新案登録出願に
抵触する可能性があることに注意を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許
権,出願公開後の特許出願,実用新案権又は出願公開後の実用新案登録出願に係る確認について,責任は
もたない。

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                                       日本工業規格(日本産業規格)                             JIS
R 1704 : 2007

ファインセラミックス−活性酸素生成能力測定による光触媒材料の水質浄化性能試験方法

Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics)-Test method for water-purification performance of photocatalytic materialsby measurement of forming ability of active oxygen

序文

  光触媒は,光照射下でセルフクリーニング,防曇,抗菌,脱臭,汚染物質の除去などの機能を利用し,
近年その応用が拡大している。水中の汚染物質を浄化する水質浄化用光触媒も開発され,製品化されてい
る。そこで,その水質浄化性能を適切に評価する試験方法が求められている。この規格は,光触媒材料の
水質浄化性能試験方法について規定する。

1 適用範囲

  この規格は,光触媒機能を利用して,水中の汚染物質を分解して浄化することを目的とした光触媒を,
成形又は材料表面に付着させた光触媒材料の水質浄化性能試験方法について規定する。ただし,可視光応
答形光触媒には適用しない。

2 引用規格

  次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は,その最新版(追補を含む)を適用する。
JIS K 0114 ガスクロマトグラフ分析通則
JIS K 0127 イオンクロマトグラフ分析通則
JIS K 0557 用水・排水の試験に用いる水
JIS K 6717-1 プラスチック−ポリメタクリル酸メチル(PMMA)成形用及び押出用材料−第1部 :
呼び方のシステム及び仕様表記の基礎
JIS R 1709 ファインセラミックス−紫外線励起形光触媒試験用光源
JIS Z 8401 数値の丸め方

3 用語及び定義

  この規格で用いる主な用語及び定義は,次による。
3.1
光触媒
光照射下で,酸化・還元作用によって,汚染物質の分解・除去,脱臭,抗菌,セルフクリーニングなど

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2
R 1704 : 2007
の諸機能を発現する物質。機能性ファインセラミックスの一種。
3.2
水質浄化
水中に含まれる汚染物質を分解することによって浄化すること。
3.3
光触媒材料
光触媒の諸機能を利用するため,塗布,含浸,練り込みなど,種々の方法によって光触媒を建築材料,
その他の材料の表面に付着させたもの。
3.4
精製水
イオン交換法によって精製された,JIS K 0557に規定するA1以上の水。

4 試験装置

  試験装置は,試験片の機能発現に必要な光を照射しながら,試験試料水を連続的に供給・循環し,試験
片の水質浄化性能を評価するもので,次に示す送液ポンプ,試験容器,光源及び試験試料水測定装置で構
成する。
なお,この試験容器にはふたがないため,開放系での試験となる。
試験装置の構成例を図1に示す。
図1−試験装置の構成例

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R 1704 : 2007

4.1 装置及び器具

  装置及び器具は,次による。
a) 試験試料水供給装置 試験容器の中で,試験試料水を所定の速度で連続的に循環するための流量制御
器及びその配管からなる。
なお,配管は,例えば,シリコーン樹脂材質のような試薬の吸着が少ない材質を使用する。また,
試験容器のチューブ接続径及びポンプの仕様に適したチューブ径を使用する。
一定量の溶液を,長時間一定速度で光照射容器内の試験片に送液,循環できる送液ポンプ。例えば,
送液チューブをローラーによって圧迫移動して送液するペリスタルティック式の構造のものとする。
b) 試験容器 平面状又は粒状の試験片を保持し,試験用試料水が供給されたときも,試験片の配列が乱
れないようにするため,試験片の配置場所の前後に,高さ1 cm以上のせきを設ける。試薬の吸着が少
なく,近紫外線の照射に耐えることができる素材を使用する。例えば,JIS K 6717-1に規定するメタ
クリル酸メチル(PMMA)樹脂素材がよい。
c) ブラックライトブルー蛍光ランプ JIS R 1709に規定するもの。
注記 一般に,UVAと呼ばれる紫外線を出すランプで351 nmにピーク放射をもつものであって,
可視光を吸収する青色ガラスを使用した紫外線蛍光ランプを使用することを推奨する。
d) 紫外光照射装置(光源) ブラックライトブルー蛍光ランプ(直管 20 W形 FL20S・BLB相当のも
の)を2本平行に取り付けたもので,ランプからの光が試験片に均一に照射され,試験片又はランプ
の位置が放射照度を調整できるような可動形とする。ランプ反射板を取り付ける場合は,紫外光劣化
の少ない材料を使用し,試験片位置で放射照度を測定できる構造とする。
e) 紫外放射照度計 JIS R 1709に規定するもの。
試験片が設置される位置で測定できるもので,良好な余弦特性をもつ受光器をもち,使用される光
源で校正されたもの,又は光触媒材料が吸収する波長範囲で一定の感度に補正されたものを使用しな
ければならない。

4.2 試薬

  ジメチルスルホキシド(DMSO) 純度99.5 %(質量分率)以上のものとする。

4.3 試験片の準備

4.3.1  試験片
光触媒材料を100±2 mm角の大きさに切り取り,これを標準の大きさの試験片とする。試験片の調製に
当たっては,油などの有機物汚染,空気中の有機物吸着による汚染などに十分注意する。試験片は光触媒
材料そのものから採取することが望ましいが,光触媒材料の形状から試験片の調製が困難な場合は,同じ
原料及び加工方法で試験片を準備してもよい。また,光触媒材料を100±2 mm角に切り取ることが困難な
場合,又は粒状の材料のように板状以外の材料の場合には,試験容器(図1)の試験片設置部分に設置可
能な大きさの試験片を使用してもよい。
4.3.2 試験片の前処理方法
試験片の前処理は,次による。
a) ほこりなどの除去 試験片を扱う前は,試験片上面,下面,及び側面に清浄な空気を吹き付け,ほこ
りなどの付着物を取り除く。
b) 有機物の除去 試料面での放射照度が2.0 mW/cm2となるように調整した紫外光照射装置を使用して,
試験片に5時間以上の紫外線照射を行う。また,耐熱性のある光触媒材料で,焼成しても物理的・化
学的な変化を生じない場合は,適時,電気炉などで焼成し表面に残留している有機物を除去してもよ

――――― [JIS R 1704 pdf 5] ―――――

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JIS R 1704:2007の国際規格 ICS 分類一覧

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